수가 피하고자 중국 이메일 사용도
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23일 서울중앙지검에 따르면 삼성전자 부장 출신 A씨 등은 삼성전자가 세계 최초로 개발한 18나노 D램 공정 정보를 외부로 빼내기 위해 공정별로 핵심인력을 영입했다.
이들의 범행 수법은 첩보전을 방불케 했다. 이들은 위장 회사를 설립하고 주기적으로 사무실을 옮겨 다니며 수사망을 피했다. 또 "항상 주위에 국가정보원 등이 있다고 생각하고 행동하라"며 내부 지침을 세웠으며 출국금지·체포 시 암호 '♥♥♥♥(하트 4개)'를 전파해 상황을 알렸다.
특히 수사기관의 추적을 피하고자 국내가 아닌 중국 이메일을 사용했고, 귀국 시 휴대전화와 USB 등을 반납해 증거를 남기지 않는 치밀함을 보였다.
이 같은 범행 수법은 검찰이 수사 과정에서 내부 행동 지침 파일을 발견하면서 드러났다.
삼성전자의 핵심연구원이었던 B씨는 2016년 9월 중국 경쟁사로 이직하면서 삼성전자의 수백 단계의 10나노대 D램 공정정보를 자필로 베껴 적어 유출한 것으로 조사됐다. 중국 경쟁사는 이를 통해 당시 세계 유일의 10나노대 D램 공정기술을 통째로 확보했다.
검찰은 1년 넘게 이 사건을 수사하며 A씨 등 10명을 재판에 넘겼으며, 범행에 가담한 삼성전자 연구원 C씨의 행방을 쫓고 있다. C씨는 현재 인터폴 적색수배 상태로 중국에 머무르는 것으로 파악됐다.
검찰 관계자는 "C씨에 대한 국내 송환을 검토 중이나 (중국 내부 상황과 맞물려) 쉽지 않은 부분이 있다"며 "현재까지 신병이 확보되지 않은 상황"이라고 설명했다.
이 관계자는 이어 "기술유출 범죄의 경우 대한민국 국민 모두가 피해자가 되는 범죄"라며 "국외에서 이뤄진 범행은 물증 확보가 사실상 불가능해 관련자에 대한 적절한 처벌이 이뤄지지 않고 있다. 그럼에도 피고인들이 범죄에 상응하는 형을 받도록 공소유지에 만전을 기하겠다"고 덧붙였다.
