반도체 장비 전문기업 아이에스티이의 조창현 대표이사가 2026년을 맞아 ‘퀀텀 리프(대도약)’를 위한 지속 성장과 고강도 혁신 의지를 밝혔다.
조 대표는 2026년 신년사를 통해 “내수 경기 침체 등 어려운 경영 환경 속에서도 지속적인 성장을 위해 임직원 모두가 각자의 자리에서 최선을 다해야 할 시점”이라고 강조했다.
그는 “지난해 대형 고객사 공급 일정이 올해로 이연되면서 일부 실적이 부진하게 나타났으나, 2026년부터는 공급이 정상화됨에 따라 본격적인 외형 성장 국면에 진입할 수 있을 것”이라고 전망했다.
실제 아이에스티이는 올해 초 SK하이닉스와 고대역폭메모리(HBM) 제조 공정에 사용되는 이송용기 세척 장비 납품 계약을 체결하는 등 수주 성과를 이어가고 있다. 아울러 삼성전자를 대상으로 한 장비 공급도 확대되고 있어 실적 개선과 외형 성장이 동시에 기대된다는 설명이다.
조 대표는 “기존 제품 공급 확대와 함께 빠르게 변화하는 반도체 시장에 적극 대응하기 위해 연구개발(R&D)에 더욱 집중해야 한다”며 “혁신적인 장비 개발과 조기 상용화를 통해 기술 경쟁력을 강화할 것”이라고 밝혔다.
아이에스티이는 현재 기존 싱글 챔버(Single Chamber) 구조의 PECVD 장비를 트윈 챔버(Twin Chamber) 구조로 고도화하는 개발을 추진 중이며, 현재 개발 완료 단계에 진입한 상태다. 트윈 챔버 PECVD 장비는 생산성과 공정 안정성을 동시에 향상시킬 수 있는 장비로, 고객사와의 최종 검수 과정에서 추가 요구사항을 반영하며 완성도를 높이고 있다.
회사는 이러한 사전 작업을 거쳐 2026년 상반기 내 장비 입고를 완료하고, DEMO 검증을 통해 상용화 시점을 앞당긴다는 계획이다.
조 대표는 “PECVD 장비 사업은 단발성 매출이 아닌 지속 가능한 전공정 장비 라인업이라는 점에서 포트폴리오 다각화 측면에서도 의미가 크다”고 설명했다.
이와 함께 아이에스티이는 마이크로웨이브를 활용한 차세대 PECVD 장비를 세계 최초로 개발 중이며, 대만 페가트론과의 협업을 통해 AI 데이터센터 사업 진출도 추진하고 있다.
조 대표는 “2025년 상반기 적자 이후 수익성 개선에 어려움이 있었으나, 2026년에는 다양한 사업이 실질적인 수주로 연결되고 있는 만큼 의미 있는 성장을 달성할 수 있을 것이라 확신한다”고 말했다.
이어 “올해는 그동안 준비해 온 경쟁력이 본격적인 성과로 이어지는 시점”이라며 “HBM용 풉클리너와 PECVD 장비를 중심으로 안정적인 성장 기반을 구축하고, 중장기적으로 차세대 PECVD 포트폴리오를 확대해 글로벌 반도체 장비 기업으로 도약하겠다”고 밝혔다.